引言 在晶圆上芯片制造工艺中，光刻胶剥离是承上启下的关键环节，其效果直接影响芯片性能与良率。同时，光刻图形的精确测量是保障工艺精度的重要手段。本文将介绍适用于晶圆
2025-06-25 10:19
光刻机制作芯片过程非常复杂，而光刻机是制造芯片最重要的设备之一，由于先进光刻机的技术封锁，中国
2021-12-30 11:23
光刻是芯片制造过程中至关重要的一步，它定义了芯片上的各种微细图案，并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍，包括原理和具体步骤。
2025-01-28 16:36
是在涂有普通乳胶的照相干版上，依据掩模原图，用照相方法制成的；另一种是在镀有一薄层金属（通常为铬）的玻璃版上，用光刻法在金属层上刻蚀出所需图形而制成的。为了使每块硅片能同时制作几十至几千个管芯或电路，掩模版
2024-09-04 14:55
光刻机原理怎么做芯片 光刻是集成电路中最重要的工艺，光刻机是制造芯片的核心装备，在
2021-08-07 14:54
引言 在半导体制造领域，光刻胶剥离工艺是关键环节，但其可能对器件性能产生负面影响。同时，光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文将探讨减少光刻胶
2025-06-14 09:42
引言 在半导体制造与微纳加工领域，光刻图形线宽变化直接影响器件性能与集成度。精确控制光刻图形线宽是保障工艺精度的关键。本文将介绍改善光刻图形线宽变化的方法，并探讨白光干
2025-06-30 15:24
引言 在半导体制造与微纳加工领域，光刻图形的垂直度对器件的电学性能、集成密度以及可靠性有着重要影响。精准控制光刻图形垂直度是保障先进制程工艺精度的关键。本文将系统介绍改善光刻图形垂直度的
2025-06-30 09:59
在比较我们的单片设计与小芯片 MCM 设计时，我们的光刻工具时间显着增加，因为晶圆必须扫描 1.875 倍。这是因为狭缝的很大一部分没有得到充分利用。
2022-06-21 14:43
逻辑芯片是数字电路中常用的芯片，如何正确连接逻辑芯片是数字电路设计和实现的重要一步。以下是正确连接逻辑
2023-12-07 10:01
