光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
光刻法制作叉指电极，叉指电极的图案用什么软件绘制，以及是否有绘制教程，刚接触这个，也没有师兄，希望大佬来指导一下
2022-05-04 19:56
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
单面板的设计制造，单面板的主体是坚硬的绝缘材料，是环氧树脂玻璃纤维或者FR4，称之为基板，铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程： 1、铜金属层包覆上一种叫做
2024-06-16 11:17
最近在调电路时，插错一个接插件，导致芯片的一个模拟输出与地相连，另一个模拟输出与电源3.3V相连，现在发现芯片的其他信号都正常，就是这两个
2016-05-12 14:29
Arm芯片的模拟电源和地如何需要和逻辑电源和地隔离吗现在要对外部电压ADC采集 arm的逻辑电源与外界隔离，因此我对外部采样时，应该将芯片的模拟电源、地VDDA,VSS
2016-01-18 13:44
HPM6000系列芯片内部模拟地和数字地是隔离开的吗？
2023-07-10 17:49
国产模拟芯片产业该如何发展？
2021-01-06 07:21
