据悉，MOR作为被广泛看好的下一代光刻胶（PR）解决方案，有望替代现今先进芯片光刻工艺中的化学放大胶（CAR）。然而，CAR在提升PR分辨率、增强抗蚀能力及降低线边缘粗糙度上的表现已无法满足当前晶圆制造的产业标准。
2024-04-30 15:09
的时候，电路本身的量子效应就会出现。如今的芯片光刻工艺已经使刻线的分辨率达到亚微米量级，例如大家熟知的Intel Pentium 4 Prescott处理器和AMD Athlon 64 Winchester处理器为90nm工
2009-08-20 18:12
传统的光刻工艺是相对目前已经或尚未应用于集成电路产业的先进光刻工艺而言的，普遍认为 193nm 波长的 ArF 深紫外光刻工艺是分水岭（见下表）。这是因为 193nm 的光刻
2022-10-18 11:20
在万物互联，AI革命兴起的今天，半导体芯片已成为推动现代社会进步的心脏。而光刻(Lithography)技术，作为先进制造中最为精细和关键的工艺，不管是半导体芯片、ME
2024-08-26 10:10
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38
光刻是半导体芯片生产流程中最复杂、最关键的工艺步骤，耗时长、成本高。半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上，这一过程通过
2023-08-23 10:47
光刻胶与光刻工艺技术 微电路的制造需要把在数量上精确控制的杂质引入到硅衬底上的微小 区域内,然后把这些区域连起来以形成器件和VLSI电路.确定这些区域图形 的工艺是由光刻
2011-03-09 16:43
光刻是芯片制造过程中至关重要的一步，它定义了芯片上的各种微细图案，并且要求极高的精度。以下是光刻过程的详细介绍，包括原理和具体步骤。
2025-01-28 16:36
光刻工艺贯穿整个芯片制造流程的多次重复转印环节，对于集成电路的微缩化和高性能起着决定性作用。随着半导体制造工艺演进，对光刻分辨率、套准精度和可靠性的要求持续攀升，
2025-03-27 09:21
