EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的
2021-07-29 09:36
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型:正性光刻和负性光刻,区别如下
2021-01-12 10:17
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
,小米9pro,oppo Reno3以及vivo X30)分别采用了什么芯片? 3协同通信的方式有哪些? 4大数据及认知无线电(名词解释) 4半导体工艺的4个主要步骤: 4简叙半导体光刻技术基本原理 4给出4个全球著名的半导体设备制造商并指出其生产的设备核心技术:
2021-07-26 08:31
中国科学院大学(以下简称国科大)微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院,国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程,而开设课程
2021-10-14 09:58
,以便能在上面印制第一层。这一重要步骤通常被称为 "沉积"。随着芯片变得越来越小,在晶圆上印制图案变得更加复杂。沉积、刻蚀和光刻技术的进步是让芯片不
2022-04-08 15:12
Hurel公司一直专注于在体外利用3D培养技术制造“芯片上的器官”,以模拟和预测肝脏和其它器官在体外的功能。上个月,CSO Reinnervate公司宣布其正接受美国人文学会(慈善协会)的融资以支持
2013-07-12 14:05
视频处理芯片HTV158资料下载内容主要介绍了:HTV-158引脚功能HTV-158内部方框图HTV-158在长虹CHD21388、PF21900U、PD21876U彩电上的工作原理
2021-03-25 07:21
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2011-04-15 18:24