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  • 光刻机是干什么用的

    光刻机和单反相机是相似,但两者的复杂和精密度是完全不可同日而语的。否则坊间哪来的“ASML的光刻机比氢弹更难搞”呢?  光刻机

    2020-09-02 17:38

  • 光刻机工艺的原理及设备

      关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。    当然

    2020-07-07 14:22

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造,光刻机作为集成电路制造中最关键的设备,对芯片制作工艺有着决定性的影响,被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”,根据之前中芯国际的公报,目...

    2021-07-29 09:36

  • 如果国家以两弹一星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • 三种常见的光刻技术方法

    是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25

    2012-01-12 10:56

  • 单片晶圆制造工艺及设备详解

    的有氧化炉、沉积设备、光刻机、刻蚀设备、离子注入、清洗、化学研磨设备等。以上是今日Enroo关于晶圆制造工艺及半导体设备的相关分享。

    2018-10-15 15:11

  • 光刻技术原理及应用

    数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。  常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息

    2012-01-12 10:51

  • 光刻机

    和荷兰学习交流,学他的技术,当然要付出代价,比如财富和他想要的东西,真诚相待,会成功的,还可以引进的的人才和技术,在和他学艺,联姻,总之就是把技术学到手。

    2022-11-20 08:48

  • 国内单片不断实现突破,国内单片的发展现状

    芯片任重而道远。2.国内单片机芯片:晶圆硅提纯时需要旋转,然后进行切割成晶圆。晶圆加工的过程有点繁琐。首先在晶圆上涂一层感光材料(见光融化),光刻机提供精准的光线,在感光材料上刻出图案,让底下的晶圆裸露出

    2018-09-03 16:48