上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)
2023-05-25 10:18 伯东企业(上海)有限公司 企业号
成特定的图形才能用于芯片, 因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工艺无法完成刻蚀, 上海伯东 IBE 离子束刻蚀机为铌酸锂 LiNbO3 薄膜
2024-09-13 10:59 伯东企业(上海)有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型
2023-05-25 10:22 伯东企业(上海)有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔
2023-05-11 13:26 伯东企业(上海)有限公司 企业号
实验名称:高压放大器在电子束增材制造聚焦消像散控制技术研究的应用 研究方向:增材制造 实验目的: 电子束选区熔化技术,即电子束3D打印技术,属于
2024-07-10 18:11 Aigtek安泰电子 企业号
有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等!KRi 离子源预清洁可以实现去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附气
2023-05-25 10:10 伯东企业(上海)有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 大尺寸考夫曼离子源 KDC 160 适用于 2-4英寸的硅片刻蚀和清洁应用, KRi KDC 160 是直流栅网离子源, 高输出离子束电流超过 1000mA. 高功率光束无需
2024-09-13 10:10 伯东企业(上海)有限公司 企业号
1.PT32M625+NMOSFET2.有感BLDC3.DC18V,35A4.启动力矩大,运行稳定5.保护:过压、过流、欠压、过温、hall错误6.优点:MOS发热小,软硬件限流,过温降载输出
2022-08-11 15:31 深圳市瑞江无限科技有限公司 企业号