。照明系统是光刻机的重要组成部分，其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外光刻照明系统光学设计为研究方向，对照明系统关键单元进行了光学设计与仿真研究。
2023-07-17 11:02
随着极紫外光刻（EUV）技术面临光源功率和掩模缺陷挑战，X射线光刻技术凭借其固有优势，在特定领域正形成差异化竞争格局。
2025-05-09 10:08
光刻是半导体制造工艺中的核心之一，极紫外光刻技术作为新一代光刻技术也处于快速发展阶段。其基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩
2024-06-27 08:16 上海昊量光电设备有限公司 企业号
1-100Hz 范围内，振动加速度均方根值需低于 10-50μm/s²。对于极紫外光刻（EUV）等先进光刻技术，要求可能更严格，在某些关键频段甚至要低于 10μ
2025-01-02 15:29 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
紫外光通信系统是一种新型的通信手段，与常规的通信系统相比，有很多优势。由于紫外线主要以散射方式传播，并且传播路径有限，采用紫外光通信系统具有一定的绕过障碍物的能力，非常适用于近距离抗干扰的通信环境。
2018-07-17 15:34
在面对紫外光子成像技术时，面临着诸多挑战。光子密度大、需要高频触发采集，以及实时计算光子位置进行谱图绘制，这些都对采集设备的性能提出了极高的要求。
2024-03-20 09:56
是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是电路图和其他电子元件。 光刻技术是一种精密的微细加工技术。常规光刻技术是采用波长为2000～4500埃的紫外光作
2018-06-27 15:43
光刻胶按照种类可以分为正性的、负性的。正胶受到紫外光照射的部分在显影时被去除，负胶受到紫外光曝光的地方在显影后被留下。
2024-04-24 11:37
EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以极紫外光作“刀”，对芯片上的晶圆进行雕刻，让芯片上的电路变成人们想要的图案。
2022-10-10 11:15
