一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分别采用了什么芯片？ 3协同通信的方式有哪些？ 4大数据及认知无线电（名词解释） 4半导体工艺的4个主要步骤： 4简叙半导体光刻技术基本原理 4给出4个全球著名的半导体设备制造商并指出其生产的设备核心技术：
2021-07-26 08:31
， 第五次光刻—引线接触孔 第六次光刻—金属化内连线：反刻铝 CMOS工艺集成电路 CMOS集成电路工艺--以P
2011-09-23 14:43
简述stm32实时时钟rtc的配置步骤，如果你在项目中需要开启实时时间的功能，即就是RTC功能，STM32单片机的RTC功能不仅要在软件上实现，首先要在硬件上实现基本功能，下面我们就来
2021-08-09 08:41
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
CMOS Gate Array CG61P Series 资料很难找的啊！！！{:12:}
2013-02-22 15:59
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
Gcode命令简述研究过3D打印机的朋友，都会用到G-code文件。要使用3D打印机打印东西要经过几个步骤： 1、创建3D模型2、切片软件处理，生成3D打印机能识别的命令(保存在G-code文件中
2021-09-08 07:18
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们知道
2021-07-29 09:36
简述SoC
2021-07-28 06:07
