刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业（上海）有限公司 企业号
表面污染情况，检查等离子清洗的效果及其影响参数。操作过程首先，将不锈钢板放在60°C的超声波清洗槽中，使用碱性清洗剂清洗15分钟，然后用去离子水彻底冲洗并干燥不锈钢
2022-06-27 11:48 佛山市翁开尔贸易有限公司 企业号
实验名称：辉光放电特征及风速测量原理 研究方向：辉光放电 测试设备：信号发生器、ATA-8202射频功率放大器，热成像仪、万用表、等离子体传感器 实验过程：在等离子体形成条件和流场响应
2024-07-19 10:40 Aigtek安泰电子 企业号
。疫情防护物品当中，口罩是必备物品，同时，口罩的科学处理，就显得十分重要，在这样的情形下，口罩自助回收机无线组网的建设便是重要举措。二、方案介绍北京东用科技针对疫情
2022-07-28 16:06 北京东用科技有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 大尺寸考夫曼离子源 KDC 160 适用于 2-4英寸的硅片刻蚀和清洁应用, KRi KDC 160 是直流栅网离子源, 高输出离子束电流超过 1000mA. 高功率光束无需
2024-09-13 10:10 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源辅助镀膜 IBAD 应用上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度
2023-05-11 13:26 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子
2023-05-25 10:18 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的
2023-05-25 10:22 伯东企业（上海）有限公司 企业号
