刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业（上海）有限公司 企业号
表面污染情况，检查等离子清洗的效果及其影响参数。操作过程首先，将不锈钢板放在60°C的超声波清洗槽中，使用碱性清洗剂清洗15分钟，然后用去离子水彻底冲洗并干燥不锈钢
2022-06-27 11:48 佛山市翁开尔贸易有限公司 企业号
在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD. KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统加装 KRi 离子源作用通过向生长的薄膜中添加能量来增
2023-05-25 10:22 伯东企业（上海）有限公司 企业号
实验名称：辉光放电特征及风速测量原理 研究方向：辉光放电 测试设备：信号发生器、ATA-8202射频功率放大器，热成像仪、万用表、等离子体传感器 实验过程：在等离子体形成条件和流场响应
2024-07-19 10:40 Aigtek安泰电子 企业号
方案简介：HDMI( 高清多媒体接口 ) 是一种全数字化视频和声音发送接口，可以发送未压缩的音频及视频信号，由于音频和视频信号采用同一条线材，大大简化系统线路的安装难度，故 HDMI 可广泛应用如
2023-04-11 11:27 深圳市优恩半导体有限公司 企业号
界面的反射而增加光线的透过率, 保证通光率, 从而保证镜头的最佳画质. 在车载摄像头镜片加工镀膜环节, 镀膜机通过加装上海伯东美国 KRi 射频离子源对于加强膜层致
2023-05-11 13:36 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 大尺寸考夫曼离子源 KDC 160 适用于 2-4英寸的硅片刻蚀和清洁应用, KRi KDC 160 是直流栅网离子源, 高输出离子束电流超过 1000mA. 高功率光束无需
2024-09-13 10:10 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子
2023-05-25 10:18 伯东企业（上海）有限公司 企业号
