刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业（上海）有限公司 企业号
在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD. KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统加装 KRi 离子源作用通过向生长的薄膜中添加能量来增
2023-05-25 10:22 伯东企业（上海）有限公司 企业号
有机物清洗, 金属氧化物的去除等, 提高沉积薄膜附着力, 纯度, 应力, 工艺效率等！KRi 离子源预清洁可以实现去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附气
2023-05-25 10:10 伯东企业（上海）有限公司 企业号
实验名称：辉光放电特征及风速测量原理 研究方向：辉光放电 测试设备：信号发生器、ATA-8202射频功率放大器，热成像仪、万用表、等离子体传感器 实验过程：在等离子体形成条件和流场响应
2024-07-19 10:40 Aigtek安泰电子 企业号
