刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业（上海）有限公司 企业号
表面污染情况，检查等离子清洗的效果及其影响参数。操作过程首先，将不锈钢板放在60°C的超声波清洗槽中，使用碱性清洗剂清洗15分钟，然后用去离子水彻底冲洗并干燥不锈钢
2022-06-27 11:48 佛山市翁开尔贸易有限公司 企业号
机制的基础上，可以明确影响放电稳定性和等离子体风速测试技术性能的主要参数包括：激励装置的电参数、电极间距、电极宽度、电极材料、气体的成分及其热力学参数。以上任一个参
2024-07-19 10:40 Aigtek安泰电子 企业号
和 IBD 离子束沉积是其典型的应用. KRi 离子源在 IBSD 离子束溅射沉积应用通常安装两个离子源主要溅射沉积源和二次预清洁 /
2023-05-25 10:18 伯东企业（上海）有限公司 企业号
