本月中旬，在日本东京举办了ITF论坛。 论坛上，与ASML（阿斯麦）合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。 至少就目前而言，ASML对于3m、2
2020-11-30 15:47
想想几年前的全球半导体芯片市场，真的可谓哀嚎一片，一时间摩尔定律失效的言论可谓此起彼伏。但是在今天，我们不仅看到5nm工艺如期而至，台积电宣布2nm获得重大进展，就连光刻机的老大ASML也传来捷报，全球最先进的
2020-12-02 16:55
）光刻技术，而GlobalFoundries当年也曾经研究过7nm EUV工艺，只不过现在已经放弃了。 而使用极紫外光（EUV）作为光源的光刻机就是EUV
2020-07-07 14:22
：5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计，将应用于1nm光刻机，预计2022年即可商用。 责任编辑：xj
2020-12-07 17:07
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
11月30日最新报道，近日荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）又送来一则好消息，该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。 据了解
2020-12-09 09:35
近日，在日本东京举办的ITF论坛上，与ASML合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程在微缩层面技术细节。
2021-01-13 16:43
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25
2022-07-10 14:53
本月中旬，在日本东京举办了ITF论坛。论坛上，与ASML（阿斯麦）合作研发光刻机的比利时半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。
2020-11-30 15:52
公司研究概况，他强调通过与ASML公司紧密合作，将下一代高分辨率EUV光刻技术高NA EUV光刻技术商业化。IMEC公司强调，将继续把工艺规模缩小到1nm及以下。 包括
2020-12-01 09:54
