将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32
2019-07-01 07:22
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
伺服电机选型的标准是看电流还是转矩？ 现有一台伺服电机：I0=10A，M0=9NM,Nn=3000rpm. 如果将其改为西门子1FK7伺服电机，选择型号是：1fk7063-5af71-1ta0 是否可行，请指教！谢谢！
2023-12-25 06:06
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
mm9z1J638的wafer有多少nm？
2023-05-31 07:34
S9S12G128的wafer有多少nm？
2023-05-24 07:38
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
想做工业设备研发，请问到底学stm32还是arm9？
2018-01-13 12:45
