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  • 光刻机的分类与原理

    本文主要介绍光刻机的分类与原理。   光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类,光刻设备有前道和后道之分。前道光刻

    2025-01-16 09:29

  • 光刻机工艺的原理及设备

    知道为啥同一光源为什么可以衍生出这么多不同工艺节点,以Intel为例,2000年用的是180nm,而现在已经是10nm了,其实光刻机决定了半导体工艺的制程工艺,光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径

    2020-07-07 14:22

  • 光刻机是干什么用的

    光刻机和单反相机是相似,但两者的复杂和精密度是完全不可同日而语的。否则坊间哪来的“ASML的光刻机比氢弹更难搞”呢?  光刻机之精密  我们是不知道ASML

    2020-09-02 17:38

  • euv光刻机是哪个国家的

    说到芯片,估计每个人都知道它是什么,但说到光刻,许多人可能不知道它是什么。光刻机是制造芯片的机器和设备。没有光刻机的话,

    2022-07-10 11:42

  • 光刻机哪个国家能

    光刻机作为芯片产业制造中不可缺少的设备,也是工时和成本占比最高的设备,更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶。那么目前有哪些国家可以制造出光刻机呢?

    2022-01-03 17:30

  • 光刻机需要哪些技术?

    没有任何一个国家的人比中国人更想造出顶级光刻机。网友甚至表示,只要造出光刻机,无论一个人做错了什么都可以原谅。

    2021-08-26 17:32

  • EUV光刻机的价值 芯片厂商不出7nm以下工艺芯片

    作为半导体芯片生产过程中最重要的装备,光刻机一直牵动人心。事实上,制程工艺越先进就要离不开先进光刻机

    2020-07-07 16:25

  • duv光刻机和euv光刻机区别是什么

    目前,光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线,EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术,EUV使用的是深紫外

    2022-07-10 14:53

  • 光刻机中国能吗_为什么中国生产不了光刻机

    ,中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中,性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米,正因如此,国内晶圆厂所需的高端

    2020-03-18 10:52

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复工复产后的生产线扩容。我们

    2021-07-29 09:36