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  • 光刻机工艺的原理及设备

      关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。    当然

    2020-07-07 14:22

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    光刻机本身的原理,其实和相机非常相似,同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理,是被摄物体被光线照射所反射的光线,透过相机的镜头,将影像投射并聚焦在相机的底片(感光元件)上,如此便可

    2020-09-02 17:38

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

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    2021-07-29 09:36

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    2020-06-10 19:23

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    2025-05-07 06:03

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    2018-07-16 13:48

  • 三种常见的光刻技术方法

    是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25

    2012-01-12 10:56

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    2019-02-12 11:06

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    2018-07-11 10:49

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    2019-06-11 18:42