光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶
2019-11-07 09:00
芯片是怎样制造出来的？有哪些过程呢？
2021-10-25 08:52
芯片制造全工艺流程详情
2020-12-28 06:20
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
光刻胶的光敏材料； 2、光电绘图仪使用光源有选择性地对部分光刻胶进行曝光； 3、曝光后光刻胶的化学特性发生变化，光刻胶是正片的经
2024-06-16 11:17
如图 用dds芯片产生这么个信号 经过电容出来的波形是1呢还是2呢 我的疑问是如果是我的交流信号叠加直流那肯定出来2但问题是这个
2020-04-23 11:39
芯片是如何制造的？CPU是如何设计出来的？
2021-11-01 06:39
`显示采集的波形，每次运行，都是立刻出整个波形且不再变化。怎么才能让时间轴实时的滚动，（看起来像让整个波形是向左移动的）可以清楚看到频率幅值的改变？求解求解`
2015-11-07 18:51
请教下各位，PCB上这种凹进去雕刻图案或文字要在AD里怎么画。凹进去的，像是刀路雕刻出来的。
2022-03-20 13:31
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
