本文从光刻图案设计、特征尺寸、电镜参数优化等方面介绍电子束光刻的参数优化，最后介绍了一些常见问题。
2024-03-17 14:33
电子束光刻（e-beam lithography，EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻
2024-03-04 10:19
电子束光刻技术使得对构成多种纳米技术基础的纳米结构特征实现精细控制成为可能。纳米结构制造与测量的研究人员致力于提升纳米尺度下的光刻精度，并开发了涵盖从光学到流体等多个物理领域、用以制造创新器件和标准的工艺流程。
2024-10-18 15:23
在电子和电气制造业中，光刻技术是制造无源/有源器件的重要步骤。
2023-11-20 09:30
本文首先阐述了电子束焊原理，其次介绍了电子束焊技术指标，最后介绍了电子束焊特点。
2019-12-10 10:18
至今，电子束焊经过不断发展已经成为一种成熟的加工技术，无论是汽车制造，还是航空航天，都起着举足轻重的作用。而40多年来，激光加工已从实验室走向了实用化阶段，并进入了原来由电子束加工的各个领域，大有
2019-12-10 10:28
本文主要阐述了电子束曝光原理及结构。
2020-11-27 15:21
电子束技术在半导体制造行业一直是重要的应用技术。本文就电子束技术作一个简单的图文介绍。
2024-04-30 14:32
本文首先介绍了电子束焊优缺点，其次阐述了电子束焊接工艺。最后阐述了电子束焊的基本工艺流程。
2019-12-10 10:37
与正光刻胶相比，电子束负光刻胶会形成相反的图案。基于聚合物的负型光刻胶会在聚合物链之间产生键或交联。未曝光的光刻胶在显影
2024-03-20 11:36
