出现误差。传统聚焦手段已不能满足电子直写光刻机对电子束质量的要求。 只有对聚焦电极改进才是最佳选择，以下介绍该进后的电极工作原理。通过把
2025-05-07 06:03
时)。EUV光刻和X光光刻则可以达到更高的分辨率。然而, 它们存在的掩膜制造困难，且掩膜易被强光损伤等缺陷限制了它们的工业化生产。而电子束光刻胶极有可能在集成电路线宽降至纳米级时大显身手，目前国外
2018-08-23 11:56
随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级（从毫米级到亚微米级），已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从4000埃扩展到 0.1埃
2012-01-12 10:51
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
157nm光源、电子束投射、离子投射、X射线和EUV，而从现在的结果来看只有EUV是成功了。当初由Intel和美国能源部牵头，集合了摩托罗拉、AMD等公司还有美国的三大国家实验室组成EUV LLC
2020-07-07 14:22
最主要的有三种，首先是电弧焊接技术，其次是电子束焊接技术，最后是电阻焊接技术。这些传统的焊接技术在精度要求不高的制作过程中应用较为广泛，但是在有空间限制以及精度要求较高的情况下就有着明显的局限性。正是由于
2018-03-15 11:18
各位朋友请问下:电子束的概念是什么?
2013-03-26 11:02
本帖最后由 iweimo 于 2014-10-20 15:07 编辑 先分享光刻的参考资料。============================2014-10-17========光刻分类
2014-09-26 10:35
电子束半导体圆筒聚焦电极 在传统电子束聚焦中，需要通过调焦来确保电子束焦点在目标物体上。要确认是焦点的最小直径位置非常困难，且难以测量。如果焦点是一条直线，就可以免去调
2025-05-10 22:32
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38
