本文从光刻图案设计、特征尺寸、电镜参数优化等方面介绍电子束光刻的参数优化，最后介绍了一些常见问题。
2024-03-17 14:33
电子束光刻（e-beam lithography，EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻
2024-03-04 10:19
来源：半导体芯科技编译 投资半导体设备行业新的生产设备 Jenoptik公司计划投资数亿欧元，为目前在德累斯顿建设的高科技工厂建造最先进的系统。新型电子束光刻系统（E-Beam）将用于为半导体
2024-01-15 17:33
基于掩膜的传统光刻技术，其成本正呈指数级攀升。而无掩膜的电子束光刻技术提供了补充性选项，可以帮助芯片制造商更快地将产品推向市场。电子束光刻技术采用
2024-05-22 18:41
电子束光刻技术使得对构成多种纳米技术基础的纳米结构特征实现精细控制成为可能。纳米结构制造与测量的研究人员致力于提升纳米尺度下的光刻精度，并开发了涵盖从光学到流体等多个物理领域、用以制造创新器件和标准的工艺流程。
2024-10-18 15:23
某大型半导体制造企业专注于高端芯片的研发与生产，其电子束光刻设备在芯片制造的光刻工艺中起着关键作用。然而，企业所在园区周边存在众多工厂，日常生产活动产生复杂的振动源，包括重型机械运转、车辆行驶以及建筑物内部的机电设备运行等，这些振动严重影响了
2025-01-07 15:13 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
麻省理工学院 (MIT)的研究人员表示，已经开发出一种技术，可望提升在芯片上写入图案的高速电子束光刻解析度，甚至可达9nm，远小于原先所预期的尺寸
2011-07-12 09:01
氢去钝化光刻(HDL)是电子束光刻(EBL)的一种形式，它通过非常简单的仪器实现原子分辨率，并使用能量非常低的电子。它使用量子物理学有效地聚焦低能电子和振动加热方法，以
2022-09-27 10:39
本文研究了 基于形状修正的电子束光刻分级邻近效应校正技术，在内部邻近效应校正的基础上，在计算图形之间产生的相互邻近效应过程中，采用了局部曝光窗口和全局曝光窗口机制。局部曝光窗口的区域小，对计算精度
2018-12-05 11:20
