本文从光刻图案设计、特征尺寸、电镜参数优化等方面介绍电子束光刻的参数优化，最后介绍了一些常见问题。
2024-03-17 14:33
电子束光刻（e-beam lithography，EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻
2024-03-04 10:19
电子束光刻技术使得对构成多种纳米技术基础的纳米结构特征实现精细控制成为可能。纳米结构制造与测量的研究人员致力于提升纳米尺度下的光刻精度，并开发了涵盖从光学到流体等多个物理领域、用以制造创新器件和标准的工艺流程。
2024-10-18 15:23
在电子和电气制造业中，光刻技术是制造无源/有源器件的重要步骤。
2023-11-20 09:30
本文是A. N. BROERS关于扫描电镜在微纳加工中应用的研究回顾，重点记录了他从1960年代开始参与电子束加工技术开发的历程。文章详细记录了EBL技术从概念萌芽到工业应用的完整发展历程，为理解现代电子束光刻技术的原理、局限性和发展方向提供了宝贵的历史视角和技术
2025-06-20 16:11
在光刻过程中，铬被用作掩膜版的关键材料。铬在紫外光下表现出高光学密度，可以有效阻挡光线。在石英基板上通过PVD等方法均匀地沉积一层薄的铬，在其上涂覆一层光刻胶，再使用电子束光刻，显影，在
2023-11-20 17:07
本文首先阐述了电子束焊原理，其次介绍了电子束焊技术指标，最后介绍了电子束焊特点。
2019-12-10 10:18
本文主要阐述了电子束曝光原理及结构。
2020-11-27 15:21
电子束技术在半导体制造行业一直是重要的应用技术。本文就电子束技术作一个简单的图文介绍。
2024-04-30 14:32
本文首先介绍了电子束焊优缺点，其次阐述了电子束焊接工艺。最后阐述了电子束焊的基本工艺流程。
2019-12-10 10:37
