电子束光刻技术使得对构成多种纳米技术基础的纳米结构特征实现精细控制成为可能。纳米结构制造与测量的研究人员致力于提升纳米尺度下的光刻精度，并开发了涵盖从光学到流体等多个物
2024-10-18 15:23
本文系统梳理了直写式、多电子束与投影式EBL的关键技术路径，涵盖扫描策略、束流整形、邻近效应校正与系统集成等方面，并探讨其在精度、效率与成本间的技术矛盾与未来发展方向。
2025-04-30 11:00
麻省理工学院 (MIT)的研究人员表示，已经开发出一种技术，可望提升在芯片上写入图案的高速电子束光刻解析度，甚至可达9nm，远小于原先所预期的尺寸
2011-07-12 09:01
基于掩膜的传统光刻技术，其成本正呈指数级攀升。而无掩膜的电子束光刻技术提供了补充性选项，可以帮助芯片制造商更快地将产品推向市场。
2024-05-22 18:41
据物理学家组织网报道，美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料，可广泛应用并开辟潜在的重点研
2012-08-22 09:06
本文从光刻图案设计、特征尺寸、电镜参数优化等方面介绍电子束光刻的参数优化，最后介绍了一些常见问题。
2024-03-17 14:33
电子束光刻（e-beam lithography，EBL）是无掩膜光刻的一种，它利用波长极短的聚焦电子直接作用于对电子敏感的光刻
2024-03-04 10:19
本文是A. N. BROERS关于扫描电镜在微纳加工中应用的研究回顾，重点记录了他从1960年代开始参与电子束加工技术开发的历程。文章详细记录了EBL技术从概念萌芽到工业应用的完整发展历程，为理解现代
2025-06-20 16:11
17分贝，带噪声系数为5分贝。该装置还包括30 dB增益控制和+15 dBm p1dB压缩点。该MMIC采用M/A COM技术的GaAs PHEMT器件模型技术，并基于电子束光刻
2018-07-05 15:50
和光通信领域的客户制造高精度微型光学元件。制造商是位于德国耶拿的电子束技术专家Vistec Electron Beam GmbH。该系统将于2025年初交付。 以最高精度创建最小的结构 这种类型的电子束光刻系统可以在
2024-01-15 17:33
