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去离子水冲洗是半导体、微电子等领域的关键工艺步骤，其正确操作直接影响产品的洁净度和性能。以下是标准化流程及注意事项：一、前期准备设备检查与校准确保去离子水系统的电阻率≥18MΩ·cm（符合

2025-08-20 13:35 芯矽科技 企业号

去离子水清洗的核心目的在于有效去除物体表面的杂质、离子及污染物，同时避免普通水中的电解质对被清洗物的腐蚀与氧化，确保高精度工艺环境的纯净。这一过程不仅提升了产品质量，还为后续加工步骤奠定了良好基础

2025-07-14 13:11 芯矽科技 企业号

去离子水不能完全替代氨水，二者在成分、功能及应用场景上存在本质差异。以下是具体分析： 化学性质与作用机制不同 氨水（NH₄OH）是一种弱碱性溶液，含有铵根离子和氢氧根离子，具有强效的络合能力，常用

2025-10-20 11:15

本研究利用臭氧去离子水（DIO3）开发了拥有成本低的新型清洗工艺(氧化亚钴），臭氧浓度为40ppm，用于去除有机蜡膜和颗粒，仅经过商业除蜡处理后，蜡渣仍超过200A。

2022-03-24 14:54

臭氧-去离子水 (O3 -DI) 工艺可以集成到臭氧 (O3) 具有工艺优势的各种水性应用中。 溶解在水中的臭氧也可用作 HCl 过氧化物混合物中过氧化氢的替代品，从而降低所用化学品的成本，同时将

2023-07-07 17:25

引言 我们华林科纳描述了一种与去离子水中铜的蚀刻相关的新的成品率损失机制。在预金属化湿法清洗过程中，含有高浓度溶解氧的水会蚀刻通孔底部的铜。蚀刻在金属化后残留的Cu中产生空隙，导致受影响的阵列电路中

2022-06-16 16:51

摘要 本研究开发了一种低拥有成本的臭氧去离子水清洗工艺。室温下40 ppm的臭氧浓度用于去除有机蜡膜和颗粒。仅经过商业脱蜡处理后，仍残留有厚度超过200的蜡残留物。由于臭氧的扩散限制反应，代替脱蜡器

2022-04-27 16:55

型号：PMT-2 品牌：

产品简介：PMT-2液体激光粒子计数器去离子水粒子计数器，采用英国普洛帝核心技术创新型的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量控制-精密计量柱塞泵和超精密流量电磁控制系统，可以对清洗剂、半导体

2023-06-08 15:44 普洛帝测控 企业号

摘要 本研究开发了一种低拥有成本的臭氧去离子水清洗工艺。室温下40 ppm的臭氧浓度用于去除有机蜡膜和颗粒。仅经过商业脱蜡处理后，仍残留有厚度超过200的蜡残留物。由于臭氧的扩散限制反应，代替脱蜡器

2022-01-26 16:02

摘要 本研究开发了一种低拥有成本的臭氧去离子水清洗工艺。室温下40 ppm的臭氧浓度用于去除有机蜡膜和颗粒。仅经过商业脱蜡处理后，仍残留有厚度超过200的蜡残留物。由于臭氧的扩散限制反应，代替脱蜡器

2022-05-07 15:49