• 发文章

  • 发资料

  • 发帖

  • 提问

  • 发视频

创作活动
0
登录后你可以
  • 下载海量资料
  • 学习在线课程
  • 观看技术视频
  • 写文章/发帖/加入社区
返回

电子发烧友 电子发烧友

  • 全文搜索
    • 全文搜索
    • 标题搜索
  • 全部时间
    • 全部时间
    • 1小时内
    • 1天内
    • 1周内
    • 1个月内
  • 默认排序
    • 默认排序
    • 按时间排序
大家还在搜
  • ByPassWAF&注入

    ByPassWAF&注入

    2017-09-05 08:58

  • 离子注入(Ion Implantation)教程

    离子注入是另一种对半导体进行掺杂的方法。将杂质电离成离子并聚焦成离子束,在电场中加速而获得极高的动能后,注入到硅中(称为 靶 )而实现掺杂。 离子束是一种带电原子或带

    2011-05-22 12:40

  • 基于注入法的接地相辨识

    基于注入法的接地相辨识_李晓波

    2016-12-28 14:24

  • 时钟毛刺注入攻击的研究分析综述

    时钟毛刺注入是现实环境中有效且常用的故障注入方法。时钟毛刺注入是通过在正常时钟周期中引入一段毛刺时钟,使得一个或多个触发器接受错误状忞而修改指令、破坏数据或状态,最终倢芯片内的秘密信息随着产生

    2021-04-26 14:20

  • 射频/微波PCB的信号注入“法门”

    将高频能量从同轴连接器传 递到印刷电路板(PCB)的过程通常被称为信号注入,它的特征难以描述。能量传递的效率会因电路结构不同而差异悬殊。PCB 材料及其厚度和工作频率范围等因素,以及连接器设计及其

    2017-11-28 10:29

  • 离子束注入技术应用

    离子束注入技术概述 基本原理:离子束射到固体材料以后,受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来,并最终停留在固体材料中,这一现象就叫做离子注入。 用能量为100keV量级的离子

    2011-05-22 13:00

  • 离子注入工艺 (课程设计资料)

    离子注入是现代集成电路制造中的一种非常重要的技术,其利用离子注入机实现半导体的掺杂,即将特定的杂质原子(Dopant)以离子加速的方式注入硅半导体晶体内改变其导电特性并最终

    2011-05-22 12:34

  • 离子注入工艺(ion implantation)

    离子注入的特点是加工温度低,易做浅结,大面积注入杂质仍能保证均匀,掺杂种类广泛,并且易于自动化。由于采用了离子注入技术,大大地推动了半导体器件和集成电路工业的发展

    2011-05-22 12:56

  • 射频/微波PCB的信号注入方法解析

    将高频能量从同轴连接器传 递到印刷电路板(PCB)的过程通常被称为信号注入,它的特征难以描述。能量传递的效率会因电路结构不同而差异悬殊。PCB 材料及其厚度和工作频率范围等因素,以及连接器设计及其

    2017-11-09 11:13

  • SQL注入扩展移位溢注

    SQL注入扩展移位溢注

    2017-09-07 15:06