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  • 氮化芯片制造的重要作用

    )、抗腐蚀性和热稳定性,使其成为芯片制造的关键材料。此外,TiN紫外至深紫外波段(UV-DUV)具有高吸收系数(约10^5 cm⁻¹),远高于SiO₂或Al₂O₃等

    2025-03-18 16:14

  • 揭示电子行业氮化铝的3个常见误区

    虽然早在1862年就首次开发了氮化铝(AIN),但直到20世纪80年代,其电子行业的潜力才被真正认识到。经过几年的发展,氮化铝凭借其独特的特性,成为下一代电力电子设

    2025-01-22 11:02 深圳市浮思特科技有限公司 企业号

  • 氮化铝的研究历史

    氮化铝(AlN)是一种六方纤锌矿结构的共价键化合物,晶格参数为a=3.114,c=4.986。纯氮化铝呈蓝白色,通常为灰色或灰白色,是典型的III-Ⅴ族宽禁带半导体材料。

    2022-03-23 14:27

  • 氮化铝的研究历史、特征及应用

    近几年,碳化硅作为一种无机材料,其热度可与“半导体”、“芯片”、“集成电路”等相提并论,它除了是制造芯片的战略性半导体材料外,因其独有的特性和优势受到其它众多行业的青睐,可谓是一种明星材料。

    2022-09-27 15:01

  • 划片机存储芯片制造的应用

    划片机(DicingSaw)半导体制造主要用于将晶圆切割成单个芯片(Die),这一过程在内存储存卡(如NAND闪存芯片

    2025-06-03 18:11 博捷芯半导体 企业号

  • 基于高温退火非极性面氮化铝单晶薄膜实现高性能声学谐振器开发

    氮化铝(AlN)以其超宽禁带宽度(~6.2 eV)和直接带隙结构,与氧化镓、氮化硼、金刚石等半导体材料被并称为超宽禁带半导体,与氮化镓、碳化硅等第三代半导体材料相比具有更优异的耐高压高温、抗辐照性能。

    2024-01-08 09:38

  • Testcase芯片验证作用

    随着半导体技术的快速发展,集成电路芯片的复杂度日益增加,芯片设计的验证工作变得越来越重要。验证的目的是确保芯片在各种工况下的功能正确性和性能稳定性。在这个过程

    2023-09-09 09:32

  • 氮化镓半导体芯片芯片区别

    材料不同。传统的硅半导体芯片是以硅为基材,采用不同的工艺硅上加工制造,而氮化镓半导体芯片则是以

    2023-12-27 14:58

  • 氮化芯片和硅芯片区别

    氮化芯片和硅芯片是两种不同材料制成的半导体芯片,它们性能、应用领域和制备工艺等方面都有明显的差异。本文将从多个方面详

    2024-01-10 10:08

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    氮化铝(AlN)是新一代大规模集成电路以及功率电子模块的理想封装材料。尽管你可能没见过它的庐山真面目,但他依然广泛地应用于我们的生活,为我们的美好生活做出贡献。今天我们就来讨论氮化铝陶瓷基板的实际

    2021-02-22 15:44