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  • 氮化硅 - 电子发烧友

    氮化硅基板是一种新型的材料,具有高功率密度、高转换效率、高温性能和高速度等特点。氮化硅(SI3N4)陶瓷线路板是一种采用氮化硅陶瓷材料作为基板的高性能电子线路板。它具有优异的机械和电性能。

    510次浏览

  • 氮化硅基板应用——新能源汽车核心IGBT

    的振动和冲击力,机械强度要求高。这就不得不提到我们今天的主角,氮化硅基板了。氮化硅的优点1、在高温下具有高强度和断裂韧性。2、散热系数高,热膨胀系数与芯片匹配,同时具有极高的耐热冲击性。3、使用氮化硅陶瓷

    2021-01-27 11:30

  • 氮化硅陶瓷基板生产工艺 氮化铝和氮化硅的性能差异

    氮化铝具有较高的热导性,比氮化硅高得多。这使得氮化铝在高温环境中可以更有效地传导热量。

    2023-07-06 15:41

  • 氮化硅薄膜制备方法及用途

    一、氮化硅薄膜制备方法及用途 氮化硅(Si3N4)薄膜是一种应用广泛的介质材料。作为非晶态绝缘体,氮化硅薄膜的介电特性优于二氧化硅,具有对可移动离子较强的阻挡能力、结构

    2024-11-24 09:33

  • 氮化硅是半导体材料吗 氮化硅的性能及用途

    氮化硅是一种半导体材料。氮化硅具有优异的热稳定性、机械性能和化学稳定性,被广泛应用于高温、高功率和高频率电子器件中。它具有较宽的能隙(大约3.2电子伏特),并可通过掺杂来调节其导电性能,因此被视为一种重要的半导体材料。

    2023-07-06 15:44

  • 氮化硅薄膜的特性及制备方法

    氮化硅(Si₃N₄)薄膜是一种高性能介质材料,在集成电路制造领域具有广泛的应用前景。作为非晶态绝缘体,氮化硅薄膜不仅介电特性优于传统的二氧化硅,还具备对可移动离子的强阻挡能力、结构致密、针孔密度

    2024-11-29 10:44

  • LPCVD氮化硅薄膜生长的机理

    可以看出, SiH4提供的是Si源,N2或NH3提供的是N源。但是由于LPCVD反应温度较高,氢原子往往从氮化硅薄膜中去除,因此反应物中氢的含量较低。氮化硅中主要由硅和氮元素组成。而PECVD反应

    2025-02-07 09:44

  • [7.8.1]--CVD氮化硅

  • 氮化硅陶瓷基板助力新能源汽车市场

    设备载荷,但同时对散热要求就更高。这也意味着需要更加先进,更匹配,更环保的PCB板———氮化硅陶瓷基板。为什么说氮化硅陶瓷基板是最适合新能源汽车的PCB板呢?氮化硅在高温下具有高强度和断裂韧性。可以

    2021-01-21 11:45

  • 氮化硅陶瓷基板的市场优势和未来前景

    氮化硅基板是一种新型的材料,具有高功率密度、高转换效率、高温性能和高速度等特点。这使得氮化硅线路板有着广泛的应用前景和市场需求,正因为如此斯利通现正全力研发氮化硅作为基材的线路板。

    2023-04-11 12:02

  • spm清洗会把氮化硅去除吗

    很多行业的人都在好奇一个问题,就是spm清洗会把氮化硅去除吗?为此,我们根据实践与理论,给大家找到一个结果,感兴趣的话可以来看看吧。 SPM清洗通常不会去除氮化硅(Si₃N₄),但需注意特定条件

    2025-04-27 11:31