本文主要论述了在PCB 生产过程中对铜面氧化的防范手段,探讨引用一种新型铜面防氧化剂的情况。
2018-09-17 16:03
二氧化硅是芯片制造中最基础且关键的绝缘材料。本文介绍其常见沉积方法与应用场景,解析SiO₂在栅极氧化、侧墙注入、STI隔
2025-04-10 14:36
当前在双面与多层PCB 生产过程中沉铜、整板电镀后至图形转移的运转周期中,板面及孔内(由其小孔内)铜层的氧化问题严重影响着图形转移及图形电镀的生产品质;另内层板由于
2018-10-16 09:45
在图形转移的前处理,通常都会采用“3%的稀硫酸+磨刷”的形式对板面铜层进行处理。而孔内只有靠酸洗的处理效果了,且小孔在前面的烘干过程中是很难达到理想效果的;因此小孔内往往因干燥不彻底、藏有水份,其
2019-09-10 14:47
在半导体器件的制造过程中,由于需要去除被称为硅晶片的硅衬底上纳米级的异物(颗粒),1/3的制造过程被称为清洗
2022-04-20 16:10
集成电路的可靠性与内部半导体器件表面的性质有密切的关系,目前大部分的集成电路采用塑料封装而非陶瓷封装,而塑料并不能很好地阻挡湿气和可移动离子。为了避免外界环境的杂质扩散进入集成电路内部对器件产生影响,必须在芯片制造的过程中
2024-10-30 14:30
当前在双面与多层PCB 生产过程中沉铜、整板电镀后至图形转移的运转周期中,板面及孔内(由其小孔内)铜层的氧化问题严重影响着图形转移及图形电镀的生产品质;另内层板由于
2018-09-09 09:27
与亚微米工艺类似,栅氧化层工艺是通过热氧化形成高质量的栅氧化层,它的热稳定性和界面态都非常好。
2024-11-05 15:37
与优化建议的流程、技术与工具。因此,在智能制造实践过程中,数据就是燃料,分析就是引擎。通过对大量过程数据的分析,使得企业能及时、准确地了解设备运行状态和生产
2018-01-08 15:04
工艺是影响LED功能作用的主要因素之一,封装工艺关键工序有装架、压焊、封装。由于封装工艺本身的原因,导致LED封装过程中存在诸多缺陷(如重复焊接、芯片电极氧化等),统计
2018-11-13 16:32