EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
，光刻机和单反相机是相似，但两者的复杂和精密度是完全不可同日而语的。否则坊间哪来的“ASML的光刻机比氢弹更难搞”呢？ 光刻机之精密 我们是不知道ASML光刻机有没
2020-09-02 17:38
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻的极限，所以Intel、三星和台积电都会在
2020-07-07 14:22
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
研发实力得到进一步夯实，正伺机而动等待崛起之机。GF退出后，高端芯片将出现一定的市场缺口，这将成为中国芯争抢市场份额的好时机。日前，7纳米的中国
2018-09-05 14:38
纳米位移计真的可以测到纳米级别的物体的位移？
2015-07-23 10:36
制造过程中，步骤会因为不同的材料和工艺而有所差异，不过大体上皆采用这样的类似工艺过程，于是就需要用到光刻机和刻蚀机。首先，在晶圆表面沉积一层薄膜，紧接着再涂敷上光刻胶（光阻），这时候
2018-08-23 17:34
暑假来一次说走就走的旅行简单，来一次静下心来与fpga灵魂互通却不易这个夏天注定不平凡，武汉至芯带给你不一样的收获。7月16日起航，正在报名中电话027-87630708地址：
2016-06-29 11:57
