，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV光刻
2020-07-07 14:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
，国际上有些厂商已抛却了研发7nm制程芯片，中国***的联电科技宣告抛却7nm制程及更先进工艺的研发，研发7nm支持这家公司就是中芯国际，目前已向荷兰ASML公司订购了
2018-10-05 08:16
中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm，若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程，EUV光刻机设备就必不可少
2021-03-10 14:36
7月30日，武汉市东西湖区人民政府官方发布《上半年东西湖区投资建设领域经济运行分析》报告，其中正式对外宣告了武汉弘芯半导
2020-09-04 11:12
5nm光刻技术与ASML光刻机有何区别？ EUV光刻机产能如何？ 大飞_6g（听友） 请问谢博士，EUV
2021-03-14 09:46
1、IBM的2nm芯片，所有关键功能都是使用EUV光刻机进行刻蚀。而7nm芯片只有在芯片生产的中间和后端环节使用EUV光刻机，意味着2
2022-07-05 17:26
据国外媒体报道，在芯片的制造过程中，光刻机是必不可少的设备，在芯片工艺提升到7nm EUV、5nm之后，极紫外光刻机也就至关重要。
2020-03-07 14:39
12月22日，位于湖北武汉的弘芯半导体发布公告，该厂为首台高端光刻机设备进厂举行了隆重的进厂仪式，虽然官方没有公布具体信息，但可以确定是一台ASML的高端
2019-12-23 08:46
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
