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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

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      帮武汉大学发贴,不是联合办学不是中介招生武汉大学电子科学与技术系2009年工程硕士研究生(集成电路工程和电子与通信工程)招生 统

    2009-06-16 20:27

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    近年很多的数据统计显示,参加IT培训的主要群体是大学生,大部分的IT培训机构都将培训课程定位为大学生群体。粤嵌每年接收的大学生数量就已经让人数不过来了。那么对于新开设的地区办,参加粤嵌

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  • 真心寻找能一起创业的技术合伙人

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    如题,近期考虑到年纪也不小了,想回武汉去发展,有没有哪位武汉的朋友有相关需求的,帮忙推荐一下,不胜感激。 本人90年,男,做Labview三年多擅长设备通讯,运动控制,数据保存,数据库,以及电脑方面百分之九十以上的问题。

    2019-12-02 17:10

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

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    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

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    求助各位大神!有什么方法可以实现在线修改simulink模块的参数,比如电阻模块的阻值按照某个函数,或者某个特定的随时间变化的曲线而变化,这个怎么实现?我看了武汉大学那篇《Simulink模块参数在线修改方法的研究》,也没看懂怎么操作!!!

    2017-04-24 11:46

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    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00