翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
，是未来经济型激光雕刻机发展的趋势。而嵌入式ARM(Advanced RISC Machines)Linux步进电机驱动是实现激光雕刻的核心。如何设计嵌入式ARM Li
2019-08-13 07:31
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
我用51单片机带动步进电机转动，采用uln2003驱动，带动一个步进电机转动时正常，带动2个步进电机是就只震动不转动了，怎么解决呢，程序只是控制一个
2013-05-04 21:45
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-7 20:08 编辑 我有一个 永磁式的 四线二项式步进电机，步进角度为7.5度，现在因为需要，想将它的
2013-08-09 20:54
如何采用uln2003模块来链接步进电机？51单片机是如何控制步进电机正反转的？
2021-10-13 08:04
各位大神，我现在遇到一个棘手的问题。我需要用单片机发送脉冲至步进电机驱动器，驱动器再驱动步进电机运转。我用的单片机是STM32F103ZET6，用这个芯片产生50%固定
2016-04-26 16:52
