本文实现了一种正面开口的热电堆结构，采用XeF2作为工作气体干法刻蚀工艺释放器件。相对于刻蚀硅，XeF2气体对铝等材料的刻蚀速率极小，这样就可以采用标准CMOS工艺中最
2012-05-02 17:26
近年来，有关将CMOS工艺在射频（RF）技术中应用的可能性的研究大量增多。深亚微米技术允许CMOS电路的工作频率超过1GHz，这无疑推动了集成CMOS射频电路的发展。目
2017-11-25 11:07
，必要时将芯片打包。由于只采用标准CMOS工艺，后处理最少，且传感器可根据需要与有源电路直接集成，因此传感器可能具有类似于CMOS器件的高产量。这也意味着生产是独立于代
2019-02-28 15:21
ProASICPLUS系列FPGA采用第二代基于FLASH技术的0.22μm标准CMOS工艺，是一种单芯片解决方案，无需外部配置器件，上电即能运行而且断电之后能够保存配置代码。它具有较低的功耗和高性能的布线结构。
2018-09-01 10:32
该加速度计接口电路原型芯片采用0.35 μm标准CMOS工艺进行流片验证，如图4所示。芯片尺寸约为3.5 mm×4 mm，采用5 V电压供电，利用硅铝丝连接机械敏感结构和芯片，避免了金属连接线导致的较大寄生电容带来
2018-04-20 08:56
Pre-CMOS/MEMS 是指部分或全部的 MEMS 结构在制作 CMOS 之前完成，带有MEMS 微结构部分的硅片可以作为 CMOS 工艺的初始材料。
2022-10-13 14:52
电源效率对于便携式设备以及模拟 IC 的噪声抗扰度来说都非常重要。本文主要介绍电压参考电路，其不仅支持极低的工作静态电流（低于 250nA），而且还符合标准CMOS工艺。这种电路针对各种应用进行了
2015-10-02 17:12
我们不断向先进的CMOS的微缩和新存储技术的转型，导致半导体器件结构的日益复杂化。例如，在3D NAND内存中，容量的扩展通过垂直堆栈层数的增加来实现，在保持平面缩放比例恒定的情况下，这带来了更高
2023-01-06 15:27
CMOS 集成电路的基础工艺之一就是双阱工艺，它包括两个区域，即n-MOS和p-MOS 有源区
2022-11-14 09:34
根据图像传感器的应用和制造工艺，图像传感器可分为CCD图像传感器和CMOS图像传感器。 特别是CMOS图像传感器（CIS）不仅被搭载于数码相机，还被广泛应用于智能手机、平板电脑、CCTV、汽车黑匣子、无人驾驶车辆传感
2024-01-24 09:30
