翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
下来。结果是实验室之前根本就没做过器件方面的工作，相关方面也没有人有任何经验，只能我自己去摸索去学习，但一学期下来也没有什么头绪（学校里到是有光刻等器件制作平台可以随时预约使用），上学期也被老师说在混
2018-02-27 15:47
`看着张老师在上面讲课，好激动。刚刚张老师说到够买元器件一定要注意元器件真伪！为啥？一个小小参数的变故，都会使你设计报废！张老师又说***垄断了贴片器件，主要有两点，贴
2015-09-14 09:40
因老师讲课需要集成电路前沿相关的PPT，让我在网上找，我是做材料的，不懂电路，故请各位大牛帮忙。大家有没有一些关于集成电路前沿的只是讨论或者相关的PPT，急求，谢谢各位。我的邮箱285014141@qq.com。再次
2015-10-16 15:30
://t.elecfans.com/1432.html讲课有两个老师，一个是硬件的戎老师，专注于硬件设计很多年，目前在一家公司担任整个硬件包括项目的经理，经验技巧讲得很到位，对于学员他是一位好
2016-10-14 00:28
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
文件。邮箱是403180030@qq.com；QQ是403180030。W是A-403180030.跪求大神指导，老师之前讲课很混乱，全部跳课讲，脱离课本。
2018-07-11 10:09
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
新入学研究生，以前没接触过单片机，渣渣一枚。老师让选一块飞思卡尔的单片机开发板做两路AD输入然后存入U盘，求大神指点怎么选，或者从哪方向下手！
2014-10-14 19:29
