上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求
2022-08-04 17:18 伯东企业(上海)有限公司 企业号
半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD(Liquid Crystal Display)面板制造领域,曝光机
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
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2022-11-09 10:55 LuxCreo清锋科技 企业号