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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 我所了解的中国电子元器件行业

    光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的7纳米工艺要到今年底才能量产,英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来,中国的IC制程技术比世界最先

    2018-06-13 14:40

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

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    2017-11-25 14:30

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

    本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了

    2018-02-27 15:47

  • 喷胶有什么典型应用 ?

    喷胶是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。

    2020-03-23 09:00

  • 请问中国有哪几家公司做智能大棚研发

    咱们国家有哪些公司做智能大棚方面的研发比较成熟?请各位大神告诉我一下 谢谢

    2019-03-05 05:18

  • 目前单片的现状如何

    单片是我们常见的控制器,不知道目前的最先进的单片是什么功能?

    2012-09-17 11:12

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    2021-09-27 08:17

  • 怎么才能触发LED发光

    我一直在用MPLAB V890编程PIC24F。该项目的细节是,我需要使用超声波传感器检测一个物体的存在,该传感器由发射和接收分别组成(不使用模块)。通过接收器电路,每当波(从物体反射)撞击到

    2019-08-02 12:17