翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
学单片机到什么程度才算是入门呢?单片机工程师能干到多少岁?
2021-08-30 07:39
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机,用的是什么制冷机?
2017-11-25 14:30
想了解下关于鸿蒙os的开源程度。 开源到什么程度,是100%开源吗?
2020-09-22 11:15
下来。结果是实验室之前根本就没做过器件方面的工作,相关方面也没有人有任何经验,只能我自己去摸索去学习,但一学期下来也没有什么头绪(学校里到是有光刻等器件制作平台可以随时预约使用),上学期也被老师说在混
2018-02-27 15:47
光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的
2019-11-07 09:00
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
首先,我是自己移植原子的显示程序到我的板上的。单独测试显示和触摸都没问题。单独测触摸时,仿真看X,Y的AD数据很稳的。基本上是稳定到1个数都不跳的程度。但是呢,只要初始化了LCD之后就,再仿真看触摸
2019-10-12 05:08
的生产厂家并不多,在28纳米以上线宽的时代,日本的佳能和尼康都能制造(对,就是造单反相机的那个佳能和尼康),但是IC制程工艺进步到十几纳米以下时,佳能和尼康就落后了,基本退出了光刻机市场。目前,世界上唯一
2018-06-13 14:40
出于对以后单片机方面工作的考虑;哪些单片机在工作中用的比较多,是要去学习的,还有数电模电要学得到什么程度呢,新人,请教大神们,畅所欲言 thank you!
2015-07-09 23:30