的出货不及预期的35台，而且他们还宣布了下一代高NA的EUV光刻机要到2025-2026年之间才能规模应用，意味着要延期了。 此前信息显示，ASML下一代EUV光刻机最
2021-01-22 17:55
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到
2020-07-07 14:22
一、2021年的交付量将是2019年的两倍左右 据国外媒体报道，在推出两代极紫外光刻机之后，阿斯麦公司又已在研发下一代极紫外光刻
2020-03-18 09:16
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
近日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）公司2019年的年报中披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程，预计2022年年初开始出货，2024年实现大规模生产。
2020-03-17 15:25
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术
2020-08-28 14:39
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
最近光刻机十分火，我们经常听到别人说7纳米光刻机、5纳米光刻机，但其实严格意义上来说并不存在7纳米光刻机，5纳米光刻机，
2020-10-19 11:42
下一代SONET/SDH设备
2019-09-05 07:05
