在如今的科技发展与汽车工业的发展中，众多手机品牌，地产品牌都涉足了汽车领域。比如oppo，华为，恒大等...大家对这些新势力造车是如何看待的想听听大家的见解
2021-06-01 14:04
`配图来自Canva理想汽车正式在纳斯达克敲钟没多久，造车新势力三兄弟之一的小鹏汽车也递交了招股书，准备登陆美股。今年一月份，美团创始人王兴称“未来仅有3家造
2020-08-19 09:50
华为的计划：在今年继续和车企合作，推出搭载华为技术的子品牌车型。明星造车新势力从诞生起就捕获了不少瞩目，也收割了丰厚的资本。上一波浪潮还未消退，新玩家已经高调入局，小米
2021-08-27 08:09
发展脉络及格局。武汉芯源半导体有限公司技术总监张亚凡先生将在IIC Shanghai 2023国际集成电路展览会暨研讨会同期的 MCU 技术与应用论坛 （3月30日） 上，发表主题演讲 《造芯新势力——CW32系列MCU》 。热烈欢迎电子行业爱好者莅临现场交流！
2023-02-28 16:11
记录一下，方便以后翻阅~CAN总线是汽车电子上不可缺少的技术，虽然现在有些造车新势力开始采用以太网来逐步取代CAN总线的地位，但是CAN总线先天的优势（成本低，安全性好，稳定性好），让其霸占汽车总线
2021-08-20 07:10
***********EMD代理美国SCI高精准薄膜度量系统与软件分析产品，美国SCI为世界薄膜度量系统和分析软件行业的领军者，其产品广泛应用于半导体，光电，数据存储，显示器，微型机电系统以及光附膜产业，SCI的薄膜特性度量系统品种丰富，从台式研发设备到全自动生产工具以及分析/设计软件应有尽有。FilmTek?，为SCI出产的基于分光光度技术的度量系统，有多种不同配置，配合不同需求，可通过反射，透射，多角度反射，椭圆分光，偏振等方式测量多层或单层，感光层材质可为金属，半导体，非晶体，水晶，绝缘体的薄膜，光源旋转补偿以及组合型分光系统配以常规入射反射计可获得最佳的测量效果，对于极薄型以及博厚型薄膜可同时测量：1.多层厚度（1? 到 250 microns）2.折射率n3.吸收系数k4.双折射率5.能隙（Eg）6.表面粗糙度和损伤7.多孔性，薄膜成份，结晶度（EMA模式）8.薄膜温度特性9.晶元曲率和薄膜耐压性应用实例，上海***研发中心2007年成功引进SCI的FilmTek?2000。详细信息请电话或邮件联系EMD上海办事处或前往SCI网站查询，联系方式如下：电话021-61021226转820/818 王小姐/陈先生邮件：wangdongmei@eccn.com/benchan@eccn.com*************EMD代理美国SCI高精准薄膜度量系统与软件分析产品，美国SCI为世界薄膜度量系统和分析软件行业的领军者，提供专业的光学薄膜设计，材质分析，椭圆偏振/分光光度测定软件。目前SCI的光学薄膜软件有：Film Wizard?，FilmMonitor?，FilmEllipse?Film Wizard? 市面上功能最强大的，多用途，界面友好的薄膜测试模拟软件，集成了优化系统和综合设计功能，强大的工具箱可以进行分光镜数据和偏振光谱分析，在软件中环境中根据真实的薄膜厚度，层次结构指标进行薄膜建模。该软件支持市面上通用的光度计和偏振器的数据输入，如果客户使用专用的光度计和偏振器，SCI公司免费可为客户量身定做专用数据输入文件系统。应用实例，目前已经有多套Film Wizard?软件应用于中国光电，半导体行业的研发和生产行业。详细信息请电话或邮件联系EMD上海办事处或前往SCI网站查询，联系方式如下：电话021-61021226转820/818 王小姐/陈先生邮件：wangdongmei@eccn.com/benchan@eccn.com网址：http://www.emdeccn.com/网址：http://www.eccn.com/sci网址：http://www.sci-soft.com/
2008-09-22 23:23
日前，媒体报道小米已确定造车，并视其为战略级决策。此前，雷静曾多次考虑造车，但未下定决心，而是选择了投资蔚来和小鹏，而且并未占多少股权，小米在两家公司上市时的持股份额均不到 5%，又很明显...
2021-07-12 07:33
大造车新势力市值高企，今年以来百度、小米等先后宣布“入圈”新能源汽车。然而，作为新能源汽车产业的重要一环，退役电池回收暗藏风险。
2021-04-13 14:39
1月11日，百度官宣造车。百度表示，将正式组建一家智能汽车公司，以整车制造商的身份进军汽车行业。吉利控股集团将成为新公司的战略合作伙伴。该消息一出，即引来汽车圈、科技圈、投资圈等多方关注，成为市场
2021-07-27 08:07
***********美国TRANSEMNE公司各种蚀刻剂，光刻胶等1) ITO蚀刻剂（/养化锡/铟养化锡蚀刻剂 TE-100）2) 铬蚀刻剂 Chromium Etchants3) 铬金属蚀刻剂TFE（Chromium Cermet Etchant TFE）EMD代理美国TRANSEMNE公司各种蚀刻剂，光刻胶等，品种齐全，欢迎来电来邮索取技术参数与价格联系人：王小姐/陈先生电话：021-61021226电邮：wangdongmei@eccn.com/benchan@eccn.comITO蚀刻剂（/养化锡/铟养化锡蚀刻剂 TE-100）氧化锡/铟氧化锡蚀刻剂TE-100 是应用于微电子行业的氧化锡/铟氧化锡层的选择性蚀刻剂，可高效的对陶瓷，绝缘层，半导体和多种金属底层上的氧化锡/铟氧化锡沉淀膜进行蚀刻，具有边界清晰，蚀刻速度可控的特性，与正负性光刻胶良好兼容。TE-100 不可用于含镍，铜，镍锘合金和铝的材质。特性：外观--深琥珀色蚀刻率（室温25°C）--15-20 ? / sec（浸没）工作温度--40-50 °C漂洗--去离子水存储--20-25 °C有效期--一年（15-25 °C）铬蚀刻剂Chromium Etchants1020 and 1020ACTransene的1020和1020AC铬蚀刻剂是一种高纯度可精确清洁蚀刻铬或氧化铬薄膜的硝酸铵铈产品，1020AC是不含硝酸的低速蚀刻剂，两种产品均可配合正负性光刻胶使用，1020 为渗入型，最小蚀刻尺寸达到0.2微米，1020AC可完成微细凹槽蚀刻，使用后用去离子水清洗即可特性 1020 1020AC外观： 透明，橙色 透明，橙色比重 1.127-1.130 1.127-1.130滤透尺寸 0.2 micron -----工作温度 可变 可变蚀刻率（ 40 °C） 40 ? / sec 32 ? / sec存储 室温 室温清洗 去离子水 去离子水应用：蚀刻温度根据膜的厚度不同变化，室温下蚀刻时间从15秒到60秒。注意：操作必须在通风罩内进行。铬金属陶瓷蚀刻剂TFE（Chromium Cermet Etchant TFE）铬金属蚀刻剂TFE是一种应用于微电子行业的选择型铬蚀刻剂，可高效的蚀刻沉积在铜，镍，金底层上的铬薄膜。此种铁氰酸钾为主要成份的蚀刻剂仅可和负性光刻剂融合，另外，在TFE是蚀刻氧化铬，硅化铬和硅铬氧化沉积层的最佳选择。特性：外观： 琥珀色蚀刻率： 15-20 ? / sec（50 °C）工作温度： 40-60 °C清洗： 去离子水存储： 室温光刻胶： 负性兼容金属： 金，铜，镍应用：铬金属蚀刻剂TFE是专用于蚀刻铜，金，镍材质感光底层上的铬，氧化铬，硅化铬和硅氧化铬薄膜的蚀刻剂。对于厚度较大的薄膜可以通过加热到40-60 °C以加快蚀刻速度。*************
2008-11-05 23:48
