将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
新一代数据中心有哪些实践操作范例？如何去推进新一代数据中心的发展？
2021-05-25 06:16
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2021-03-02 06:21
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2021-05-07 06:17
斯巴鲁近日宣布将从明年起运用其新一代EyeSight安全系统，并在10月2日首先透露了新一代产品的细节。
2020-08-26 07:28
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2020-04-07 09:00
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2019-07-17 06:47
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2021-06-02 06:39
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2021-01-11 06:47
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻
2019-11-07 09:00
