现在EUV极紫外光已经提升过一次了。 之前ASML公布的新一代EUV
2019-07-13 09:40
随机变化需要新方法、新工具，以及不同公司之间的合作。 极紫外（EUV）光刻技术正在接近生产，但是随机性变化又称为随机效应正在重新浮出水面，并为这项期待已久的技术带来了更
2018-03-31 11:52
EUV光刻机的唯一供应商ASML在2017年度Semicon West半导体设备展上也表示，250瓦的EUV光源也万事俱备。公司2017年财报中也强调，其
2018-01-23 14:51
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。
2017-12-19 13:33
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术
2020-08-28 14:39
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
2020-10-16 10:33
EUV 光刻是以波长为 10-14nm 的极紫外光作为光源的芯片光刻技术，简单来说，就是以
2022-10-10 11:15
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微
2020-01-29 11:07
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，因此也具备极高的单台价
2018-04-10 10:19
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂
2018-04-10 09:49
