上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求
2022-08-04 17:18 伯东企业(上海)有限公司 企业号
半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD(Liquid Crystal Display)面板制造领域,曝光
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
第二代碳化硅MOSFET系列器件,比上一代器件在比导通电阻、开关损耗以及可靠性等方面性能更加出色。 碳化硅MOSFET器件具有高的击穿电压强度,更低的损耗和
2023-05-29 10:16 国芯思辰(深圳)科技有限公司 企业号
手持机国产方案基于紫光展锐八核64位高性能处理器,采用6纳米工艺制程,最高主频可达2.3GHz,运算性能比上一代提升了40%。搭载安卓11.0系统,操作更为流畅,使用更为便捷。机身存储配置为
2024-05-20 19:56 深圳市智物通讯科技有限公司 企业号