翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的7纳米工艺要到今年底才能量产,英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来,中国的IC制程技术比
2018-06-13 14:40
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机,用的是什么制冷机?
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的
2019-11-07 09:00
的含义 GL:光敏 5: 元件外径 5: 可见光区 4?? 7?? 最关键的后两位数字 就是不知道怎样区别! GL5506 GL
2024-01-12 09:02
GL3520封装有哪几种?为什么选择GL3520方案?GL3520方案有什么益处?
2021-06-16 09:10
本人某985电子学院研一学生,我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做,前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了,让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会,就直接答应了
2018-02-27 15:47
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶,最大涂胶尺寸达8寸,得到厚度均匀的光刻胶层,同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶;通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
GL3224 QFN32 USB3.0 插入过快 superspeed 用不了. 这个GL3224芯片,插入到 USB3.0 的 接口中,插入过快,就不工作,电源 5V 到了芯片的.指示灯也不亮;慢慢插入就只有 US
2024-04-24 16:03
有效,但是:只有在渲染目标的纹理类型从GL_TEXTURE_2D切换到GL_TEXTURE_RECTANGLE之后。在GRID SDK的NvIFROpenGL.h之后,调用
2018-09-26 15:31