光掩膜版基本上是 IC 设计的“主模板”。掩模版有不同的尺寸。常见尺寸为 6 x 6 英寸一般的掩膜版由石英或玻璃基板组成。光掩
2023-09-24 15:18
本文简单介绍了极紫外光（EUV）掩膜版的相关知识，包括其构造与作用、清洗中的挑战以及相关解决方案。
2024-12-27 09:26
对先进光刻掩膜光衍射的精密EMF模拟已成为预知光刻模拟的必做工作。
2012-05-04 16:28
掩模版（Photomask）又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工艺中关键部件之一，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具
2023-12-25 11:41
SAMPro3D首先初始化3D提示，使用SAM在各个帧中生成相应的2D掩膜。然后，它根据所有帧中相应掩膜的质量过滤3D提示，优先选择在所有视图中都能产生高质量结果的提示
2024-01-26 14:31
鉴于MEMS工艺源自光刻微电子工艺，所以人们很自然会考虑用IC设计工具来创建MEMS器件的掩膜。
2011-12-09 11:44
训练数据由（注意掩膜、状态）的轨迹组成，提前生成的轨迹用于确认我们希望模型学习的特定概念。我们为给定概念集提供一组演示（通常为5次）来训练模型，然后将模型置于一个新的环境（X0），并要求其预测下一个状态（X1）和下一个注意力
2018-11-10 10:34
在具体实现过程中，基于Mask R-CNN提出了一种新颖的迁移学习方法。Mask R-CNN可以将实例分割问题分解为边框目标检测和掩膜预测两个子任务。在训练中分类信息会被编码到边框头单元中，就可以将这一视觉类别信息迁移到部分监督的
2018-06-20 16:45
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
2020-10-09 11:29
在光刻过程中，铬被用作掩膜版的关键材料。铬在紫外光下表现出高光学密度，可以有效阻挡光线。在石英基板上通过PVD等方法均匀地沉积一层薄的铬，在其上涂覆一层光刻胶，再使用电子束光刻，显影，在光刻胶上做出预期的图形，之后进行Cr的刻蚀，最后去除光刻胶，即可得到
2023-11-20 17:07
