翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
接触式IC卡通过其表面的金属电极触点将卡的集成电路与外部接口电路直接接触连接，由外部接口电路提供卡内集成电路工作的电源。
2019-10-15 09:10
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2023-02-21 20:16
光刻法制作叉指电极，叉指电极的图案用什么软件绘制，以及是否有绘制教程，刚接触这个，也没有师兄，希望大佬来指导一下
2022-05-04 19:56
工业制造中需要用到多种设备，非接触式位移传感器就是为工业环境所设计，适用于重度污染和粉尘大的恶劣环境，安装方便。那么非接触式位移传感器的
2020-08-14 07:21
1 .方案名称 基于GD32的非接触式红外温度计 2.方案介绍 红外温度测量是通过热辐射原理来测量温度的,是一种非接触式温度测量方式,与
2015-07-18 19:46
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2021-01-25 07:39
如何运用已经存在的程序让单片机工作？
2021-11-04 06:38
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
哪个有嵌入式/单片机工程师面试试题和答案的？分享下
2021-08-06 17:19
