在芯片制造的复杂流程中，光刻工艺是决定晶体管图案能否精确“印刷”到硅片上的核心环节。而光刻Overlay(套刻精度)，则是衡量光刻机将不同层电路图案对准精度的关键指标。
2025-02-17 14:09
光刻机的曝光方式主要有三种，分别是接触式曝光、非接触式曝光和投影式曝光。
2022-01-03 17:31
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
光刻机的原理是接近或接触光刻，通过无限接近，将图案复制到掩模上。直写光刻是将光束聚焦到一个点上，通过移动工作台或透镜扫描实现任意图形处理。投影
2022-07-10 15:28
光刻机经历了5代产品发展，每次改进和创新都显著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。按照使用光源依次从g-line、i-line发展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次从接触接近
2024-03-21 11:31
光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。 可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位，光刻机，是制造芯片的机器，要是没有了光刻机，我们就没有
2021-07-07 14:31
光刻机是我国芯片制造业一大痛点，目前，在EUV光刻机赛道中，仅有ASML一个玩家。
2021-03-02 15:29
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用
2022-02-05 16:03
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前世界上最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机。
2022-07-06 11:03
