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关于机械抛光设备和辅助品的介绍： 机械抛光设备 抛光机 手动抛光机 ：适用于小批量或精细操作，操作者可以通过手动控制抛光

2024-09-11 15:43

单面抛光吸附垫是抛光技术领域中的一种重要配件，主要用于晶圆等半导体材料的单面抛光过程中。以下是对单面抛光吸附垫的详细介绍： 一、定义与功能 单面

2024-12-13 11:04 广州万智光学技术有限公司 企业号

氩离子抛光技术氩离子抛光技术（ArgonIonPolishing,AIP）作为一种先进的样品制备方法，为电子显微镜（SEM）和电子背散射衍射（EBSD）分析提供了高质量的样品表面。下面将介绍氩离子

2025-04-27 15:43 金鉴实验室 企业号

CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化学机械抛光”，是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点

2023-12-05 09:35

前言硅片按照产品工艺进行分类，主要可分为硅抛光片、外延片和SOI硅片。上期我们已经介绍SOI硅片，本期关注硅抛光片和外延片。硅抛光片硅抛光片又称硅单晶

2024-06-12 08:09 西斯特精密加工 企业号

氩离子抛光技术的原理氩离子抛光技术基于物理溅射机制。其核心过程是将氩气电离为氩离子束，并通过电场加速这些离子，使其以特定能量和角度撞击样品表面。氩离子的冲击能够有效去除样品表面的损伤层和杂质，从而

2025-02-07 14:03 金鉴实验室 企业号

样品切割和抛光配温控液氮冷却台，去除热效应对样品的损伤，有助于避免抛光过程中产生的热量而导致的样品融化或者结构变化，氩离子切割制样原理氩离子切割制样是利用氩离子束（〜1mm）来切割样品，以获得相比

2025-05-26 15:15 金鉴实验室 企业号

氩离子抛光技术氩离子抛光技术凭借其独特的原理和显著的优势，在精密样品制备领域占据着重要地位。该技术以氩气为介质，在真空环境下，通过电离氩气产生氩离子束，对样品表面进行精准轰击，实现物理蚀刻，从而

2025-01-16 23:03 金鉴实验室 企业号

氩离子抛光技术作为一种前沿的材料表面处理手段，凭借其高效能与精细效果的结合，为众多领域带来了突破性的解决方案。它通过低能量离子束对材料表面进行精准加工，不仅能够快速实现抛光效果，还能在微观尺度上保留

2025-02-24 22:57 金鉴实验室 企业号

使用化学机械抛光(CMP)方法对碳化硅晶片进行了超精密抛光试验，探究了滴液速率、抛光头转 速、抛光压力、抛光时长及晶片吸

2023-05-31 10:30