单面抛光吸附垫是抛光技术领域中的一种重要配件，主要用于晶圆等半导体材料的单面抛光过程中。以下是对单面抛光吸附垫的详细介绍： 一、定义与功能 单面
2024-12-13 11:04 广州万智光学技术有限公司 企业号
本文首先对磁粉探伤进行了简单介绍，然后解释了磁粉探伤的原理，并对磁粉探伤进行了分类，最后说明了磁粉探伤的主要特点。
2019-08-08 16:21
CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化学机械抛光”，是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点
2023-12-05 09:35
机械抛光是一种通过物理或化学作用改善材料表面粗糙度和光泽度的过程。这个过程通常用于金属、塑料、玻璃和其他材料的表面处理。机械抛光设备和辅助品的选择取决于材料类型、抛光目的和预期的表面质量。以下是一篇
2024-09-11 15:43
本文围绕磁粉探伤的操作和磁粉探伤选用材料两方面展开。
2019-08-08 16:45
