抛光工艺是指激光切割好钢片后，对钢片表面进行毛刺处理的一个工艺。电解抛光处理后的效果要优于打磨抛光，因此电解抛光工艺常用于有密脚元件的钢网上。建议IC引脚中心间距在0.
2018-09-22 14:02
。角磨机适合用来切割、研磨及刷磨金属与石材，作业时不可使用水。切割石材时必须使用引导板。针对配备了电子控制装置的机型，如果在此类机器上安装合适的附件，也可以进行研磨及抛光作业。 二、电动角
2023-04-20 15:00
，再移至显微镜下观察是否还有裂纹的存在。裂纹样品示意图脏污抛光液、水、或是细小的研磨碎屑黏附在样品表面上时，会影响到截面的观测与染结效果。因此在整个磨抛过程中，需要及时更换砂纸、清洗动力头及样品。此外
2019-08-09 13:34
剖面/晶背研磨 (Cross-section/Backside)快速的样品制备方式之一，利用砂纸或钻石砂纸，搭配研磨头作局部研磨(Polishing)，加上后续的抛光，可处理出清晰的样品表面。iST
2018-09-11 10:24
美国Tekscan公司的压力分布测量系统I-SCAN，搭配目前世界上最薄的压力传感器（厚度仅为0.1mm)，对硅片抛光过程中的压力分布情况进行检测，并改善抛光设备的性能，使其达到最佳的抛光效果，提升
2013-12-24 16:01
抛光处理，才可以正常应用。速加网：超精密抛光技术的种类有很多，主要是根据零件的实际情况来进行选择的，不同类型的抛光技术使用的加工设备也是不同，以下就是对超精密抛光的不同
2018-11-15 17:00
预设”指示线“的出现，并伺机修平改正已磨歪磨斜的表面。 （4）改用2500#砂纸打磨去除粗糙表面“孔的1/2位置“所预设”指示线“的出现1/2位置，并伺机修平粗糙的表面。 4.抛光 要看
2021-02-05 15:39
1、物料过硬 有些立磨机对物料硬度有一个严格的要求（如超细立磨机），超过了它的工作范围就会出现产量降低，立磨机震动强烈，石粉过粗等情况。所以物料的硬度一定要控制好。 2、物料过细 物料粒度
2020-12-02 14:24
摘要 ： 一种用于小直径非球面 CCP 抛光的新概念，称为Pea Puffer非球面，能够生成那些对于大多数 CCP 抛光方法来说孔径太小的非球面。Pea Puffer方法能够在工业中以高质量
2025-05-09 08:48
EBSD制样最有效的方法------氩离子截面抛光仪电子背散射衍射(EBSD)技术出现于20世纪80年代末,经过十多年的发展已成为显微组织与晶体学分析相结合的一种新的图像分析技术。因其成像依赖于晶体
2014-04-17 15:50
