原子哥， 我在做sd卡实验的时候答应出来的数据怎么几乎全部是0 是不是卡坏了？？？
2020-06-17 09:00
VS Code 编译helloword demo程序，能正常的下载，但是监控的时候，打印全部是乱码？有谁知道原因吗？感谢！
2024-06-12 07:37
请教下，为什么我软件仿真PWM的列程（寄存器片本和库文件版本）输出的全部是直线啊，这个是什么原因啊，有人做过这个试验吗？
2019-08-06 21:38
不软件复位时的情况，发回来的值全部是0附件63227999216545.jpg39.7 KB63228000828641.jpg34.0 KB
2018-11-21 09:34
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
满足国民经济科学研究，国防建设以及社会生活等各个方面日益增长的迫切需求，我国计量仪器产品，绝大部分属于中低档技术水平，而且可靠性、稳定性等关键性指标尚未全部达到要求，高档，大型仪器设备几乎全部依赖
2017-09-06 17:45
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程技术比世界最先进水平落后两代以上，时间上
2018-06-13 14:40
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
超越进口变频器产品，国内变频器企业正不断缩小与国外企业的技术差距，通过技术攻关和质量控制，在保证质量的基础上，确立了国产变频器产品的本土化应用竞争优势，填补了变频器产品的应用空白。我国变频器加速向高端化
2014-04-18 15:37
