近年来，计算领域发生了巨大变化，通信已成为系统性能的主要瓶颈，而非计算本身。这一转变使互连技术 - 即实现计算系统各组件之间数据交换的通道 - 成为计算机架构创新的焦点。本文探讨了通用、专用和量子计算系统中芯片和封装级互连的最新进展，并强调了这一快速发展领域的关键技术、挑战和机遇。
2024-10-28 09:50
5G时代即将开启，但创新的脚步并未停止。Qualcomm将在MWC上展示5G最新进展和应用，推动5G技术演进和生态系统拓展。
2019-02-21 16:36
从2009年开始算起，中国研究团队一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成验收。这意味着，中国半导体材料和设备（工艺技术）产业又向前跨出了关键一大步
2018-04-10 10:57
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。
2017-12-19 13:33
综述了锂离子电池研究的最新进展和发展前景。主要从电解质和电极的高温稳定性方面介绍了锂离子电池热不稳定性产生原因及其机制，阐明了现有商用锂离子电池体系在高温时的不足，提出开发高温电解质、正负极修饰以及外部电池管理等来设计高安全型锂离子电池。
2018-06-06 14:58
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。
2020-08-28 14:39
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备， 技术含量、价值含量极高。 光刻机涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，因此也具备极高的单台价
2018-04-10 10:19
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微电子经过17年的努力，才造出90nm的光刻机，这
2020-01-29 11:07
、碳纳米管薄膜红外探测器以及碳纳米管光电集成研究方面的最新进展。 图1 碳纳米管探测器和光电集成 碳纳米管材料由于具有高红外吸收系数（3×10⁵ cm⁻¹）、高迁移率（10⁵ cm² V s⁻¹）、基底
2023-06-12 17:02
0摘要 相位测量偏转法（PMD）具有动态范围大、非接触式操作、全场测量、采集速度快、精度高、自动数据处理。我们回顾了 PMD 的最新进展。下面介绍几种基于条纹反射的 PMD 方法，介绍 PMD
2023-06-29 10:01
